半個世紀以來，微電子技術迅速發展。隨著信息技術的不斷擴展和深化，芯片制造工藝制程已減小到?5nm?以下。芯片相當于電子行業的“大腦”。雖然只有指甲那么大，但需要在芯片板上放置數十億個納米級晶體管。在芯片生產過程中，80%以上的工藝需要化學處理，而每一種化學處理都離不開水。因此，芯片行業對生產用水的質量有著非常嚴格的要求，因為一旦水質不合格或水中含有雜質，就會降低器件的性能，降低成品率。芯片生產過程中需要水質達到超純水標準。芯片行業使用的水是否合格也決定了產品能否合格出廠。因此，EDI超純水系統已成為芯片行業的“決勝點”。

　　EDI超純水系統通常由石英砂過濾器、活性炭過濾器、阻垢劑、精密過濾器等組成預處理系統、RO反滲透系統、EDI超純水系統等組成主要設備系統。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設有液位控制系統，高低壓水泵均設有高低壓壓力保護裝置、在線水質檢測和控制儀表，電氣采用PLC可編程控制器，真正實現無人值守，使該超純水工藝與其他工藝相比具有更高的性價比和設備可靠性。

　　EDI超純水系統設計采用成熟、可靠、高度自動化的兩級RO+EDI+拋光混床除鹽水處理工藝，確保處理后的水電阻達到18MΩ.CM以上。反滲透預脫鹽技術也安裝在設備內部，再次從根本上保證了設備的出水質量。同時，EDI超純水系統產生的廢水量小，不會對環境造成污染，具有很高的環境效益和經濟效益，具有廣闊的發展前景。

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