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萊特萊德超純水設備結合膜分離技術，采用反滲透、EDI裝置結合混床模塊化設計工藝來制備超純水，其出水電阻率可達18 MΩ*cm(25℃)，符合芯片制造用水要求。...
萊特萊德超純水設備出水水質符合美國ASTM D5127電子及半導體業用純水水質TypeE-1.2，高于我國國家電子級超純水標準。...
萊特萊德超純水設備采用雙反+EDI+拋光混床組合工藝，能有效去除水中雜質，保證設備出水水質。...
超純水設備是采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理等方法，將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水處理設備。...
萊特萊德超純水設備可在線檢測和顯示超純水電阻率，模塊化集成設計，安裝方便，維護簡單，占地面積小，外觀設計美觀。...
超純水的制備過程通常采用四個主要步驟：預處理、反滲透技術、EDI超純水設備和后處理。...
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