隨著電子工業(yè)的發(fā)展,在芯片的生產(chǎn)加工過程中,對(duì)于水質(zhì)的要求也越來越高。為了保證生產(chǎn)出超大規(guī)模的集成電路,除高純原材料、高純氣體、高純化學(xué)藥品外,高純水也是其中關(guān)鍵的因素之一。

　　高純水系統(tǒng)是將一般的市政用水處理成對(duì)不同離子的含量和顆粒度都有很高要求的超純水。超純水系統(tǒng)總體來說一般可分為三個(gè)部分:超純水制造區(qū)(CUB部分)、超純水拋光循環(huán)區(qū)(FAB部分)、超純水輸送管網(wǎng)(FAB各使用區(qū))。

　　其中超純水制造區(qū)復(fù)雜，其又可分為：預(yù)處理、一次純水處理、超純水處理三個(gè)部分。預(yù)處理部分主要包括：沙濾、活性碳塔(有的廠商在沙濾前還增設(shè)反應(yīng)槽、氣浮池);一次純水處理部分主要包括：陰陽離子交換塔、脫氣塔(DG)、保安過濾器、紫外線殺菌器及多級(jí)反滲透;超純水處理部分主要包括：MDG(脫氧膜組)、TOC-UV殺菌器、混床(MB)及終端過濾器。

　　考慮到在向工藝設(shè)備輸送高純水過程中，輸水管道會(huì)對(duì)水質(zhì)再次造成污染，因而在FAB內(nèi)一般都設(shè)立拋光循環(huán)系統(tǒng)。拋光循環(huán)系統(tǒng)主要以MB為核心，再加上超濾設(shè)備(UF)，以除去在向工藝生產(chǎn)線輸送純水的過程中，管網(wǎng)溶入水中的雜質(zhì)。

　　萊特萊德超純水設(shè)備結(jié)合膜分離技術(shù)，采用反滲透加離子交換系統(tǒng)(或EDI)相結(jié)合的工藝來制取超純水，該工藝與傳統(tǒng)工藝相比具有運(yùn)行成本低的優(yōu)點(diǎn)(離子交換器的再生周期大大延長)，運(yùn)行可靠。出水水質(zhì)符合美國ASTM D5127電子及半導(dǎo)體業(yè)用純水水質(zhì)TypeE-1.2，高于我國國家電子級(jí)超純水標(biāo)準(zhǔn)GBT11446.1-1997EW-Ⅰ標(biāo)準(zhǔn)。