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半導體的生產需要經過晶圓制備與清洗、沉積、光刻、蝕刻、摻雜、清洗等步驟。并且在這一系列的工序中需要應用到超純水進行清洗，超純水的品質被嚴格要求著。...
萊特萊德超純水設備結合膜分離技術，利用反滲透結合EDI裝置制備超純水，出水電阻率可達18.2MΩ.cm(25℃)，滿足半導體生產用水的需求。...
反滲透膜生產超純水的工藝已經很成熟，并且該技術水通量大，化學清洗周期長，出水水質穩定，特別適用于電子級超純水EDI系統前處理，可以有效地控制電子級超純水系統的TOC含量。...
芯片產業應用的超純水設備摒棄了傳統工藝，核心是采用的膜分離技術，應用反滲透工藝與EDI和精處理混床工藝來生產超純水，不僅產水量增加，出水水質能夠滿足ASTM D5127-13中E1.3標準， 滿足了芯片行業用水...
萊特萊德超純水設備，采用膜表面嫁接技術達到更好的脫鹽率，能連續、穩定地生產高純度的超純水。已成功應用到晶圓、電子芯片、集成電路、精密儀器、電鍍涂裝、試劑稀釋、氟化工等多個領域。...
萊特萊德超純水設備采用高效反滲透技術和EDI設備，結合新型反滲透膜分離技術和EDI技術制備超純水。與傳統工藝相比，該工藝運行成本低且運行可靠，整體化程度高、易于擴展、增加膜數量即可增加處理量。...
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